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Profiler 2射頻輝光放電光譜儀

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產品描述

GD-Profiler 2是一款可進行超快鍍層分析的理想工具,適合于導體(和/或)非導體復合鍍層的分析。可分析70多種元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次測試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。

GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度,深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。此外,還采用了多項專利技術,如高動態檢測器(HDD)可測試ppm-100%的濃度范圍,專利Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應用領域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導體材料、LED晶片、硬盤、有機鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。

 

技術參數

1、射頻發生器-標準配置、復合D級標準、穩定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩定時間極短,表面信息無任何失真。

2、脈沖工作模式既可以分析常規的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。

4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有更大的光通量,因而擁有光效率和靈敏度。

5、高動態檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態范圍為5×1010。

6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。

7、Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。

8、HORIBA獨有的單色儀(選配)可極大地提高儀器靈活性,可實現固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。

9、適用于ISO14707和16962標準。

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